직무 · 삼성전자 / 공정기술
Q. 반도체 패키징 엔지니어의 공정 관련 질문
[언더필 공정] 1)언더필의 필렛 정도(필렛의 너비와 높이)를 두고 평가를 진행하는지 궁금하며, 이 경우 단면 분석을 통해 광학 현미경으로 필렛의 정도를 측정하나요? 2)어떤 공정 결과 데이터를 바탕으로 언더필이 잘 진행되었는지 평가하나요? 3)오버플로우가 자주 발생하는지, 오버플로우를 육안으로 평가하는지, 어떤 공정 파라미터를 주로 조절하는지 궁금합니다. [다이싱 공정] 4)다이싱 블레이드 공정에서는 target kerf-width(tolerance ± a)로 공정을 진행하나요? 또한, 광학현미경을 통해 kerf width, CHIPPING, CRACK, BURNING를 함께 평가하고 측정 하나요? 5)one line 다이싱을 진행하면, DIE 마다 kerf-width나 CHIPPING WIDTH 가 모두 다를것으로 예상되는데 최대값과 최소값의 평균으로 하나요? 6)일반적으로 웨이퍼 EDGE 부분 다이와 웨이퍼 CENTER 부분의 다이 간의 kerf-width 차이가 심하나요?
2025.02.20
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